Nano-ridge engineering

Photonik: Das Rennen um die perfekte III-V-Laser-Integration

Gelingt die direkte Integration von III-V Lasern auf Silizium, verändert das die Photonik grundlegend. Mit Nano-Ridge Engineering wurde erstmals ein CMOS-kompatibler 300-mm-Prozess realisiert – ein technologischer Meilenstein mit industrieller Tragweite.